然而，桂林银行的上市之路并非一帆风顺。早在2015年，桂林银行就曾尝试登陆新三板，但随后撤回申请，时任行长于志才表示，这是出于对发展战略调整的考虑，希望在条件成熟时直接争取主板上市。2019年，副董事长吴东明确表示，桂林银行将在3到5年内实现上市梦想，并在2020年正式转战主板。
春城热力(01853)公布，经考虑公司发展策略及当前行业环境并与参与A股发行的相关专业人士认真研究及讨论后，公司决定撤回A股发行申请。公司董事会已批准撤回申请。公司已向深圳证券交易所提交撤回申请，并于2024年6月20日取得深圳证券交易所出具的《关于终止对吉林省春城热力股份有限公司首次公开发行股票并在主板上市审核的决定》。
运营商财经 康钊/文
近日，工信部发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，其中显示，集成电路设备方面，中国已研发成功氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。那么，这是什么含义呢？其实还有喜有忧。
工信部其实是告知一个重要信息，即国产光刻机技术取得了实质性进步。光刻精度主要看的是光刻机的分辨率，65nm的分辨率，那么单次曝光能够达到的工艺制程节点大概就在65nm左右，所以，工信部的消息其实意味着国产光刻机已经实现了65纳米工艺的重大突破。可千万别小瞧这个进步，最近，荷兰遵照美国的意图，限制光科技巨头阿斯麦公司向中国出售NXT：1970 和 NXT：1980这两款光刻机，就是故意卡在65纳米工艺上了，中国宣告光刻机突破65纳米，美国的这个卡脖子政策也就没意义了，这就是喜的地方。
忧的地方是，还没有业内企业说见到了这个光刻机。中国首台（套）重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品，包括整机设备、核心系统和关键零部件等。也就是说，这个65纳米工艺的国产光刻机还没到“取得明显市场业绩”的阶段，不知中芯国际之后是否会购买并大规模使用。
中国虽然攻克了65纳米工艺的光刻机，但距离国际先进水平还相差多远呢？实际上，荷兰阿斯麦公司2006年推出的干式DUV光刻机XT：1450的分辨率就已经达到了57nm，套刻精度为7nm。所以，65纳米的国产DUV光刻机性能与阿斯麦公司的技术实际差距超过18年，美国限制向中国出售的NXT：1970光刻机也是2007年就已推出的，17年前的老款光刻机都对中国不开放，可见美国对中国真是欺负到家了，但这回泡汤了。
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